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기존 단결정 실리콘-그래핀 터널링 다이오드는 밴드갭 에너지 제어가 어렵고 이상 계수가 높아 성능 구현에 한계가 있었습니다. 본 기술은 그래핀-실리콘 양자점 하이브리드 구조를 활용하여 이러한 문제를 해결합니다. 실리콘 양자점의 크기와 그래핀의 도핑 농도를 정밀하게 제어함으로써 다이오드의 성능과 전기적 특성을 크게 향상시킵니다. 특히 AuCl3 도핑 농도 및 실리콘 양자점 크기 조절을 통해 이상 계수가 1에서 2 사이인 이상적인 다이오드 특성을 구현할 수 있습니다. 이를 통해 광전자 장치 등에 활용될 수 있는 고성능 터널링 다이오드를 제공합니다.
| 기술 분야 | 그래핀-실리콘 양자점 하이브리드 소자 |
| 판매 유형 | 자체 판매 |
| 판매 상태 | 판매 중 |
| 기술명 | |
| Tunneling diode using graphene-silicon quantum dot hybrid structure and method of manufacturing the same | |
| 기관명 | |
| University-Industry Cooperation Group of Kyung Hee University | |
| 대표 연구자 | 공동연구자 |
| 최석호 | - |
| 출원번호 | 등록번호 |
| 15501514 | 9935207 |
| 권리구분 | 출원일 |
| 특허 | 2014.10.14 |
| 중요 키워드 | |
CVD 그래핀고품질 그래핀그래핀하이브리드 구조실리콘 양자점나노기술SiOx 박막테라헤르츠 응용광전자 소자AuCl3 도핑에너지 밴드갭반도체 소자터널링 다이오드도핑 농도 제어이상 계수IT | |
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